CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE NITRETO DE TITÂNIO DEPOSITADOS POR DESCARGA A PLASMA EM GAIOLA CATÓDICA

Sandro Santos da Silva, Leonardo Cabral Gontijo, Sukarno Olavo Ferreira, Cintia de Laet Ravani Bottoni

Resumo


Filmes de nitreto de titânio foram depositados em substratos de vidro borosilicato por descarga a plasma em gaiola catódica com furos e sem furos nas laterais. Cada filme foi depositado com uma pressão de trabalho de nitrogênio e hidrogênio de 1,9 Torr na temperatura 435 °C. As Propriedades estruturais, ópticas e elétricas foram investigadas para compreender o efeito da presença ou não de furos nas laterais da gaiola catódica sobre elas. Os menores valores de resistividade elétrica foram encontrados nos filmes depositados na gaiola com furos e com fluxos de gases de 72 sccm de N2 e de 128 sccm de H2. Os maiores valores de transmitância foram encontrados nos filmes depositados na gaiola sem furos e fluxo de gases de 178 sccm de N2 e 22 sccm de H2.



Palavras-chave


Filme fino; nitreto de titânio; plasma; gaiola catódica

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DOI: https://doi.org/10.25242/885X82120181322

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